Nezadostna vakuumska srebrna CVD tehnologija

Nezadostna vakuumska srebrna CVD tehnologija

Pomanjkljivosti tehnologije CVD so, da je temperatura nanašanja kar 800 ~ 1100 stopinj. Pri tako visoki temperaturi se obdelovanec zlahka deformira, še posebej pri tistih obdelovancih z visoko natančnimi dimenzijami, ki niso odporni na visoke temperaturne spremembe, bo njihova uporaba do določene mere omejena. , eksplozivno, strupeno ali jedko, zato je treba sprejeti določene zaščitne ukrepe.

Značilnosti CVD tehnologije vakuumskega posrebrenja

Na splošno ima tehnologija CVD naslednje značilnosti: 1. Procesno delovanje opreme je razmeroma preprosto in prilagodljivo ter lahko pripravi enojni ali kompozitni film in film iz zlitine z razmerjem ena; 2. Metoda CVD Ima široko paleto uporabnosti in lahko pripravi različne kovinske ali zlate prevleke; 3. Hitrost nanašanja je lahko visoka od nekaj mikronov do sto mikronov na minuto, zato je učinkovitost proizvodnje visoka. 4. V primerjavi z metodo PVD ima boljše difrakcijske lastnosti in je zelo primeren za premazovanje. Kompleksne podlage, kot so utori, prevlečene luknje in celo strukture slepih lukenj, je mogoče nanesti v filme; 5. Premaz ima dobro kompaktnost. Zaradi visoke temperature procesa oblikovanja filma je oprijem na površini filmske podlage zelo močan, zato je sloj filma zelo trden; 6. Poškodba po izpostavljenosti sevanju je majhna in jo je mogoče integrirati s postopkom integriranega vezja MOS.

Vakuumsko posrebrena tehnologija kemičnega naparjevanja

Tehnologija kemičnega naparjevanja, imenovana tehnologija CVD. To je tehnologija tvorjenja filma, pri kateri se s kemično reakcijo plinastih snovi na površini substrata oblikuje trden film s segrevanjem, izboljšanjem plazme, pomočjo svetlobe ali na druge načine ali v pogojih nizkega tlaka. Na splošno je reaktant reakcija, pri kateri je eden od plinastih produktov trdna snov, kar se imenuje CVD reakcija. Obstaja veliko vrst premazov, pripravljenih z reakcijo CVD, zlasti v polprevodniški tehnologiji. Na področju polprevodnikov je na primer rafiniranje surovin, priprava visokokakovostnih polprevodniških filmov z eno natančnostjo, rast polikristalnih filmov in amorfnih filmov ter izdelava elektronskih naprav za integrirana vezja povezana s CVD. tehnologija. Poleg tega je bolj priljubljen pri površinski obdelavi materialov. Na primer, različne materiale, kot so stroji, reaktorji, vesoljska, medicinska in kemična oprema, je mogoče pripraviti s tvorbo filma CVD v skladu z njihovimi različnimi zahtevami. Funkcionalni premazi, kot so odpornost proti koroziji, toplotna odpornost, odpornost proti obrabi in ojačitev površine.

www.superbheater.com