Pojav zastrupitve tarče za vakuumsko posrebrenje

Pojav zastrupitve tarče za vakuumsko posrebrenje

(1) Kopičenje pozitivnih ionov: Ko je tarča zastrupljena, se na površini tarče oblikuje izolacijski film. Ko pozitivni ioni dosežejo ciljno katodno površino, zaradi blokiranja izolacijske plasti ne morejo neposredno vstopiti v katodno ciljno površino, ampak se kopičijo na ciljni površini, ki je nagnjena k hladnemu polju. Razelektritev, ki jo povzroča oblok --- oblok, tako da se katodno razprševanje ne more nadaljevati.

(2) Anoda izgine: Ko je tarča zastrupljena, se na steno ozemljene vakuumske komore odloži tudi izolacijski film in elektroni, ki dosežejo anodo, ne morejo vstopiti vanjo, kar povzroči izginotje anode.

Vplivni dejavniki zastrupitve vakuumsko posrebrenih tarč

Glavni dejavnik, ki vpliva na zastrupitev tarče, je razmerje med reaktivnim in razpršenim plinom. Prekomerna količina reaktivnega plina bo povzročila zastrupitev tarče. Med postopkom reaktivnega razprševanja je območje kanala za razprševanje na ciljni površini prekrito z reakcijskim produktom ali pa se reakcijski produkt odlušči, da se kovinska površina vedno znova izpostavi. Če je hitrost tvorbe spojine večja od hitrosti, pri kateri se spojina odstrani, se površina, ki jo pokriva spojina, poveča. Pri določeni moči se poveča količina reakcijskega plina, ki sodeluje pri tvorbi spojine, in hitrost tvorbe spojine. Če se količina reaktivnega plina prekomerno poveča, se površina, ki jo pokriva spojina, poveča. Če hitrosti pretoka reaktivnega plina ni mogoče pravočasno prilagoditi, hitrosti povečanja površine, ki jo pokriva spojina, ni mogoče preprečiti, in kanal za razprševanje bo dodatno pokrit s spojino. Ko je tarča za razprševanje popolnoma prekrita s spojino. Ko je tarča popolnoma zastrupljena.

Tvorba kovinskih spojin na ciljni površini vakuumskega srebrenja

Kje nastane spojina v procesu tvorbe spojine iz kovinske tarčne površine skozi proces reaktivnega naprševanja? Ker reaktivni delci plina trčijo z atomi na ciljni površini, da ustvarijo kemično reakcijo, da ustvarijo sestavljene atome, ki je običajno eksotermna reakcija, mora imeti toplota, ki nastane pri reakciji, način prevajanja, sicer se kemična reakcija ne more nadaljevati. Prenos toplote med plini je v vakuumu nemogoč, zato morajo kemične reakcije potekati na trdni površini. Izdelki z reaktivnim razprševanjem se izvajajo na ciljnih površinah, površinah podlage in drugih strukturiranih površinah. Naš cilj je ustvarjanje spojin na površini substrata. Ustvarjanje spojin na drugih površinah je izguba virov. Ustvarjanje spojin na ciljni površini je bilo sprva vir sestavljenih atomov, kasneje pa je postalo ovira za neprekinjeno dovajanje več sestavljenih atomov.

www.superbheater.com