Pogoji postopka, ki se uporabljajo pri vakuumskem kromiranju in razmaščevanju
Pustite sporočilo
Pogoji postopka, ki se uporabljajo pri vakuumskem kromiranju in razmaščevanju
Pogoje postopka, ki se uporabljajo pri razmaščevanju z lugom in razmaščevanju pred vakuumsko galvanizacijo, je treba določiti glede na material prevlečenih delov in vsebnost olja na površini. Deli materialov, odpornih na alkalije, kot je vakuumska galvanizacija, lahko uporabljajo močno alkalno čistilno raztopino in vakuumsko galvansko razmaščevanje. Temperatura je lahko tudi višja, da se izboljša učinkovitost in hitrost razmaščevanja, močnih alkalnih raztopin, kot je natrijev hidroksid, pa ni mogoče uporabiti za deli iz cinka, aluminija, bakra in drugih materialov, temperatura pa ne sme biti previsoka, da preprečite korozijo. Pri uporabi kislinsko bazičnega losjona, pripravljenega s trdo vodo, je treba dodati sredstvo za kompleksiranje. Po splošnem razmaščevanju z lugom površina delov za vakuumsko galvanizacijo še ni dosegla standarda pošiljanja glede na zahteve za površinsko obdelavo, vakuumska galvanizacija pa mora opraviti tudi postopek elektrolitskega razmaščevanja, preden lahko izpolni zahteve za pošiljanje ali nadaljuje z naslednjim. postopek.
Koncept enotnosti vakuumske kromirane folije:
1. Enakomernost v debelini lahko razumemo tudi kot hrapavost. Na lestvici optičnih filmov (to je 1/10 valovne dolžine kot enote, približno 100 A) je enakomernost vakuumskega premaza precej dobra in hrapavost je mogoče enostavno odstraniti. Stopnja nadzora je znotraj 1/10 valovne dolžine vidne svetlobe, kar pomeni, da ni nobene ovire za optične lastnosti filma. Če pa se nanaša na enakomernost na lestvici atomske plasti, se pravi na doseganje 10A ali celo 1A ravnosti površine, je to glavna tehnična vsebina in tehnično ozko grlo pri vakuumskem premazovanju. Posebni kontrolni faktorji bodo podrobno razloženi v nadaljevanju glede na različne premaze. .
2. Izenačenost kemijske sestave: to pomeni, da bo v filmu atomska sestava spojine zlahka povzročila neenakomerne lastnosti zaradi majhnega obsega. Če je postopek premazovanja filma SiTiO3 neznanstven, potem dejanska sestava površine ne bo enaka. To ni SiTiO3, ampak so lahko drugačna razmerja. Premazni film ni kemična sestava želenega filma, kar je tudi tehnična vsebina vakuumskega premaza.
3. Enotnost mrežnega reda: To določa, ali je film monokristalni, polikristalni ali amorfni, kar je vroča težava v tehnologiji vakuumskega premazovanja. Za podrobnosti glejte spodaj.
Obstajata dve glavni kategoriji: nanos z izhlapevanjem in nanos z naprševanjem, vključno s številnimi vrstami, vključno z vakuumskim ionskim izparevanjem, magnetronskim razprševanjem, epitaksijo z molekularnim žarkom MBE, sol-gel metodo itd.
www.superbheater.com
