Vakuumsko kromiranje Ion Beam DLC
Pustite sporočilo
Vakuumsko kromiranje Ion Beam DLC
DLC z ionskim žarkom: Ogljikov plin se ionizira v plazmo v viru ionov in pod skupnim delovanjem elektromagnetnega polja vir ionov sprosti ogljikove ione. Energija ionskega žarka se nadzoruje s prilagajanjem napetosti, ki se uporablja za plazmo. Žarek ogljikovodikovih ionov je usmerjen na substrat, hitrost nanašanja pa je sorazmerna z gostoto ionskega toka. Vir ionskega žarka prevleke zvezdnega loka sprejme visoko napetost, zato je energija ionov večja, zaradi česar se film in podlaga dobro vežeta; ionski tok je večji, zaradi česar je hitrost nanašanja filma DLC hitrejša. Glavne prednosti tehnologije ionskega žarka so nanašanje ultratankih in večplastnih struktur, natančnost nadzora procesa več angstromov in zmanjšanje napak, ki jih povzroča kontaminacija z delci med procesom.
Tehnologija PVD nanosa Star Arc v vakuumskem kromiranju
Izboljšan magnetronski katodni oblok: Tehnologija katodnega obloka ionizira ciljni material v ionsko stanje z nizko napetostjo in visokim tokom pod vakuumskimi pogoji, s čimer se zaključi nanašanje tankoslojnih materialov. Izboljšan magnetronski katodni oblok izkorišča kombinirano delovanje elektromagnetnega polja za učinkovit nadzor obloka na površini ciljnega materiala, tako da je stopnja ionizacije materiala višja in učinkovitost filma boljša.
Filtriranje katodnega obloka: Filtriranje katodnega obloka (FCA) je opremljeno z učinkovitim sistemom elektromagnetne filtracije, ki lahko filtrira makroskopske delce in ionske grozde v plazmi, ki jih ustvarja vir ionov. Stopnja ionizacije odloženih delcev po magnetni filtraciji je 100 odstotkov. Poleg tega je mogoče filtrirati velike delce, tako da je pripravljen film zelo gost, raven in gladek, ima dobro korozijsko odpornost in močno vezavo na telo.
Magnetronsko razprševanje: V vakuumskem okolju je tarča s kombiniranim delovanjem napetosti in magnetnega polja obstreljena z ioniziranimi ioni inertnega plina, kar povzroči, da se tarča izvrže v obliki ionov, atomov ali molekul in odloži na substrat v obliki tanek film. Odvisno od uporabljenega ionizacijskega vira energije se lahko kot tarče razpršijo tako prevodni kot neprevodni materiali.
www.superbheater.com
